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和缺陷一樣，量測(cè)也是晶圓制造良率管理的重要組成部分。缺陷是通過(guò)對(duì)異常問(wèn)題的監(jiān)控來(lái)實(shí)現(xiàn)良率的保障，而量測(cè)是對(duì)生產(chǎn)結(jié)果的及時(shí)檢查來(lái)確保所有的生產(chǎn)步驟結(jié)果都符合預(yù)期來(lái)實(shí)現(xiàn)最終的產(chǎn)品有效。就如同在生產(chǎn)一個(gè)機(jī)械零件，在加工過(guò)程中需要不斷地進(jìn)行用游標(biāo)卡尺進(jìn)行測(cè)量，來(lái)確定每道工序都正確無(wú)誤。

晶圓制造是非常精密復(fù)雜的過(guò)程，任何細(xì)微的變化，就會(huì)帶來(lái)毀滅性的打擊，因此量測(cè)和缺陷檢測(cè)一樣，也是在制造過(guò)程中引入多個(gè)量測(cè)站點(diǎn)，及時(shí)對(duì)生產(chǎn)的關(guān)鍵指標(biāo)進(jìn)行監(jiān)控，在指標(biāo)緩慢偏離正常指標(biāo)前提前識(shí)別，進(jìn)行糾正，確保生產(chǎn)的晶圓的良率最大化。要達(dá)成這個(gè)目標(biāo)，最佳的解決方案就是在生產(chǎn)過(guò)程中對(duì)所有在制品進(jìn)行量測(cè)，然而在量測(cè)過(guò)程中，生產(chǎn)設(shè)備必須要等待反饋結(jié)果，確保沒(méi)有問(wèn)題后才能繼續(xù)生產(chǎn)。但是一方面量測(cè)設(shè)備的工作效率同樣無(wú)法與生產(chǎn)設(shè)備相比，另外在量測(cè)過(guò)程中，生產(chǎn)需要進(jìn)行一定范圍的停滯，將造成生產(chǎn)周期的大大延長(zhǎng)，這會(huì)影響客戶的最終上市時(shí)間，是無(wú)法被接受的。以CPU 為例，AMD 和INTEL誰(shuí)能快速推出5nm的晶圓，就能快速搶占市場(chǎng)，擊垮對(duì)手。

目前普遍的做法是對(duì)產(chǎn)線產(chǎn)品進(jìn)行抽檢，在良率問(wèn)題全覆蓋以及生產(chǎn)周期間尋找平衡點(diǎn)。同缺陷檢測(cè)一樣，虛擬量測(cè)的出現(xiàn)完美地解決了良率和生產(chǎn)周期無(wú)法兼顧的問(wèn)題。

虛擬量測(cè)（Virtual Metrology ）產(chǎn)品利用已收集的相關(guān)參數(shù)，比如設(shè)備的傳感器參數(shù)或其它參數(shù)，與所關(guān)心的測(cè)量結(jié)果進(jìn)行AI 建模，此模型可以在之后根據(jù)設(shè)備傳感器參數(shù)進(jìn)行量測(cè)值預(yù)測(cè)，無(wú)需到特有的設(shè)備進(jìn)行實(shí)際的測(cè)量。

虛擬量測(cè)（Virtual Metrology ）產(chǎn)品主要功能包括：設(shè)備參數(shù)獲取解析、預(yù)測(cè)模型庫(kù)，模型修正等功能模塊。

目前國(guó)內(nèi)外并沒(méi)有成熟的晶圓行業(yè)虛擬量測(cè)(Virtual Metrology)產(chǎn)品，眾壹云的虛擬量測(cè)(Virtual Metrology)產(chǎn)品具備以下幾個(gè)特點(diǎn)：

1、基于成熟的晶圓行業(yè)生產(chǎn)大數(shù)據(jù)平臺(tái)實(shí)現(xiàn)，有效保證虛擬量測(cè)(Virtual Metrology)模型的建模成功率。目前我司在國(guó)內(nèi)頭部晶圓廠內(nèi)實(shí)施的建模成功率約為50%。

2、基于成熟的晶圓行業(yè)模型運(yùn)行管理平臺(tái)實(shí)現(xiàn)，可以快速有效的將成熟的模型導(dǎo)入生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)并產(chǎn)生效益。